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芝加哥气动背垫作为砂光机组件,与工作台面的砂光垫配合使用,实现高效打磨抛光。 custom.product.country_of_origin. custom.product.commodity_code
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BACKING PAD 180MM

6159902000

BACKING PAD 180MM
dimention
custom.dimensions 4 x 4 x 1.5 cm
weight
custom.weight 50 g

custom.product.benefits

增加圆盘的灵活性: 背托盘提供额外的被测变量垫层,使砂轮磨盘移动更加自如。
压力分布均匀: 利用圆盘的最大表面积,确保每个表面都能获得均匀的抛光效果。