BACKING PAD RC7150 DIAM 105MM product.image.text.alttext
芝加哥气动背垫作为砂光机组件,与工作台面的砂光垫配合使用,实现高效打磨抛光。 custom.product.country_of_origin. custom.product.commodity_code

custom.product.specification.title

Design & Functions
垫孔数
0
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BACKING PAD RC7150 DIAM 105MM

8951011545

dimention
custom.dimensions 11.5 x 0.2 x 0.2 cm
weight
custom.weight 20 g

custom.product.benefits

增加圆盘的灵活性: 背托盘提供额外的被测变量垫层,使砂轮磨盘移动更加自如。
压力分布均匀: 利用圆盘的最大表面积,确保每个表面都能获得均匀的抛光效果。