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芝加哥气动背垫作为砂光机组件,与工作台面的砂光垫配合使用,实现高效打磨抛光。

Technical Specifications

通用信息
能源类型
NA
Design & Functions
圆形磨垫尺寸 (in)
2
圆形磨垫尺寸 (mm)
50
被测变量
Circular
垫孔数
0
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PAD - 2'' BUFFING

8940166627


Benefits

增加圆盘的灵活性: 背托盘提供额外的被测变量垫层,使砂轮磨盘移动更加自如。
压力分布均匀: 利用圆盘的最大表面积,确保每个表面都能获得均匀的抛光效果。